这几年光刻机这个词很火,因为光刻机是生产半导体芯片的核心设备,没有先进的光刻机就无法制造先进工艺制程的芯片,而美国针对中国目前没有掌握先进光刻机技术的情况下,联合荷兰等国家对中国光刻机出口进行限制。


(资料图片仅供参考)

当地时间 6月30日,荷兰政府发布了《先进半导体制造设备法规》,对先进半导体制造设备进行出口管制, 管制措施将在9月1日生效,到时候 想要出口相关设备,必须获得 授权后才能出口, 荷兰光刻机巨头阿斯麦公司(ASML)无疑首当其冲。

在光刻机领域,荷兰ASML实力强劲,ASML在高端光刻机领域已经一家独大,之前ASML的 EUV光刻(极紫外光刻)系统已经受到限制,早就无法向中国出口,不过浸润式DUV光刻机依旧可以对中国出口。

这次荷兰政府的相关法规开始对浸润式DUV光刻机下手了,ASML对这次的新规进行了回应,根据新出口管制条例的相关规定,需要获得荷兰的许可证才能发运最先进的浸润式DUV系统, 不过ASML也表示并非所有浸润式DUV光刻系统都受到限制。

根据ASML的官网信息,目前ASML的主流DUV光刻机产品共有三款设备,分别是TWINSCAN NXT:1980Di、2000i和、2050i,其中2000i和2050i需要获得许可才能出口,而1980Di及档次更低的产品应该还可以继续出口。

从相关信息来看,中国依旧可以从ASML进口光刻机,但都是技术相对落后的部分DUV光刻机,想要先进的光刻机没门。

这其实属于美国精准打击中国芯片产业发展的关键环节,希望以此来锁死中国高端芯片制造技术的突破,同时还可以继续让盟友对中国出口部分设备而获利,不可谓不鸡贼。

那么如何才会让荷兰放开管制呢?答案也很简单,那就是中国取得突破,美国发现封锁失败后才会放开。那么目前国内的光刻机技术走到哪一步了?

简单来说 , 上海微电子已经实现了90nm设备的量产,至于更高端的28nm DUV光刻机,目前还没看到交付商用,可以看到上海微电子和ASML的差距还是很明显的,有业内人士认为二者的差距起码在20年左右。

总之在光刻机这块,目前的形势不容乐观,不仅仅ASML限制出口,日本也对浸没式光刻机进行了限制,而且其标准更严格,对45nm以下的设备都会禁止出口。

不过对于这种情况,大家应该早就料到了,摆在眼前的路基本上只有打造自主可控的芯片产业链,才可以彻底解决卡脖子的问题。

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